无码人妻丰满熟妇区免费,人妻被粗大猛进猛出国产,亚洲av综合色区无码专区桃色,五级黄高潮片90分钟视频

技術(shù)文章您的位置:網(wǎng)站首頁(yè) >技術(shù)文章 >干法刻蝕

干法刻蝕

更新時(shí)間:2020-11-05   點(diǎn)擊次數:2204次

 

在半導體制造中,干法刻蝕是用來(lái)去除表面材料的主要的刻蝕方法。干法刻蝕是把硅片表面暴露于氣態(tài)中產(chǎn)生的等離子體,等離子體通過(guò)光刻膠中開(kāi)出的窗口與硅片發(fā)生物理或化學(xué)反應,從而去掉暴露的材料。

一個(gè)等離子體干法刻蝕系統由發(fā)生刻蝕反應的反應腔、一個(gè)產(chǎn)生等離子體的射頻電源、氣體流量控制系統、去除刻蝕生成物和氣體的真空系統等組成??涛g反應系統包括傳感器、氣體流量控制單元和終點(diǎn)觸發(fā)探測器。一般的干法刻蝕中的控制參數包括真空度、氣體混合組分、氣流流速、溫度、射頻功率和硅片相對于等離子體的位置。常用的干法等離子體反應器類(lèi)型包括圓筒式等離子體反應器、平板式反應器、順流刻蝕系統、三級平面反應器、離子銑、反應離子刻蝕器、高密度等離子體刻蝕機等。

郎溪县| 兰坪| 清丰县| 翁牛特旗| 科尔| 宜兰县| 哈巴河县| 石林| 定边县| 三门县| 辽源市| 新和县| 攀枝花市| 宁南县| 遂溪县| 瓦房店市| 施甸县| 宣汉县| 鄂尔多斯市| 宁波市| 墨竹工卡县| 金沙县| 诏安县| 兴宁市| 新竹县| 冀州市| 珠海市| 长顺县| 金昌市| 新昌县| 开江县| 贵州省| 六枝特区| 湾仔区| 定西市| 丁青县| 金秀| 清镇市| 唐河县| 富锦市| 湾仔区|