无码人妻丰满熟妇区免费,人妻被粗大猛进猛出国产,亚洲av综合色区无码专区桃色,五级黄高潮片90分钟视频

技術(shù)文章您的位置:網(wǎng)站首頁(yè) >技術(shù)文章 >干法刻蝕

干法刻蝕

更新時(shí)間:2020-11-05   點(diǎn)擊次數:2204次

 

在半導體制造中,干法刻蝕是用來(lái)去除表面材料的主要的刻蝕方法。干法刻蝕是把硅片表面暴露于氣態(tài)中產(chǎn)生的等離子體,等離子體通過(guò)光刻膠中開(kāi)出的窗口與硅片發(fā)生物理或化學(xué)反應,從而去掉暴露的材料。

一個(gè)等離子體干法刻蝕系統由發(fā)生刻蝕反應的反應腔、一個(gè)產(chǎn)生等離子體的射頻電源、氣體流量控制系統、去除刻蝕生成物和氣體的真空系統等組成??涛g反應系統包括傳感器、氣體流量控制單元和終點(diǎn)觸發(fā)探測器。一般的干法刻蝕中的控制參數包括真空度、氣體混合組分、氣流流速、溫度、射頻功率和硅片相對于等離子體的位置。常用的干法等離子體反應器類(lèi)型包括圓筒式等離子體反應器、平板式反應器、順流刻蝕系統、三級平面反應器、離子銑、反應離子刻蝕器、高密度等離子體刻蝕機等。

营山县| 原平市| 永定县| 定日县| 灵川县| 横峰县| 广东省| 龙川县| 原阳县| 郴州市| 遂昌县| 西盟| 东莞市| 大石桥市| 阿瓦提县| 彭阳县| 日喀则市| 驻马店市| 兰溪市| 广南县| 阳新县| 黄陵县| 万荣县| 永州市| 富川| 乌海市| 铅山县| 松潘县| 湟源县| 兴和县| 屏南县| 确山县| 澄迈县| 吉林市| 莆田市| 上虞市| 阿拉善盟| 中阳县| 洛南县| 石棉县| 黔江区|